中科院辟谣光刻机(中科院辟谣光刻机11纳米)

今天怡怡来给大家分享一些关于中科院辟谣光刻机11纳米方面的知识吧，希望大家会喜欢哦

1、在芯片的生产过程中，光刻机是关键设备，而光刻则是必不可少的核心环节。

2、光刻技术的精度水平决定了芯片的性能强弱，也代表了半导体产业的完善程度。

3、我们国内一直希望在这方面取得领先的地位，但是结果却不尽人意。

4、 其实光刻机之所以这么难造，就是因为光刻技术实在是太复杂了，不仅需要顶尖的光源条件，还对精度有着近乎苛刻的要求。

中科院辟谣光刻机(中科院辟谣光刻机11纳米)

5、目前，全球光刻技术市场基本上被美日两国垄断了，而我们国内正在努力攻克其中的技术难点。

中科院辟谣光刻机(中科院辟谣光刻机11纳米)

6、 那么光刻到底是一项怎样的工作呢？为什么能难倒这么多国家？大家都知道，芯片的衬底是半导体晶圆，而光刻就是在晶圆上制备芯片的第一步。

7、在光刻过程中，有一项非常重要的材料，名为光掩膜，没有它也就无法将集成电路刻画在晶圆上。

8、 而且光掩膜也有高中低端的层次之分，通过高端光掩膜生产出的芯片更加先进，而低端的就只能用于生产普通芯片了。

9、显然，高端光掩膜也是各个国家青睐的对象，但是这种材料的制备难度非常高，如果精度达不到要求，那么想要突破绝非易事！ 就目前的情况来看，国内在光掩膜市场还对国外进口存在一定的依赖，但是随着中科院的突破，这种依赖正在慢慢减轻，以后将会彻底消失。

10、那么如今国内的光刻技术到底达到了何种水平呢？ 在讨论这个问题之前，我们先来看看中科院传出的消息，它被很多人过分甚至是错误解读了。

11、今年7月份，中科院发表了一篇论文，研究内容是5nm光刻制备技术，而大部分人都以为这标志着中科院突破到了最先进的5nm极紫外光刻技术。

12、 但是事实却并非如此，据后来该论文的通讯作者刘前在接受媒体采访时表示，中科院研究的5nm光刻制备技术针对的是光掩膜的生产，而不是光刻机用到的极紫外光。

中科院辟谣光刻机(中科院辟谣光刻机11纳米)

13、也就是说，中科院发表论文不等同于国产光刻机技术达到了5nm水平。

14、 对此，很多国人都在想，难道国产5nm光刻技术不存在？从某种意义上来说，现在这个问题的答案是肯定的，国产5nm确实还遥遥无期。

本文到这结束，希望上面文章对大家有所帮助。